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化学 高校生

問8 解説に、不飽和度は2以上とありますが、なぜでしょうか。どなたか教えてください🙇‍♂️

早稲田大基幹理工・創造理工・先進理工 48 2021年度 化学 間2 実験2で得られたアルデヒドGの物質名を答えなさい。 問3 化合物A~Hの中で,不斉炭素原子を有する化合物をすべてび 解答欄の該当する記号を○で囲みなさい。 問4 化合物A~Hの中で, ヨウ素と水酸化ナトリウム水溶液を加えて 加熱すると黄色沈殿が生成する化合物をすべて選び, 解答欄の該当す る記号を○で囲みなさい。 問5 化合物として考えられるすべての構造を「水素Hの価標を省 略して簡略化した構造式」 *2 で書きなさい。 (2) 油脂Pを加水分解したところ, グリセリンと飽和脂肪酸 Q, 不飽和 素ナトリウムと完全に反応させたところ, 必要な炭酸水素ナトリウムは 脂肪酸 R, 不飽和脂肪酸 S が得られた。 飽和脂肪酸 Q14.2gを炭酸水 4.20g であった。 また, 不飽和脂肪酸 R と不飽和脂肪酸Sは水素を付 加させることにより,いずれも飽和脂肪酸 Q を与えた。 一方, 不飽和 脂肪酸Rは以下の①の反応により、炭素数が同じである化合物と化 合物 U を同じ物質量与えた。ここで, 化合物Tはカルボキシ基を1つ もち,化合物Uはカルボキシ基を2つ持っていた。一方,不飽和脂肪 酸S3.50g に臭素を完全に反応させたところ,化合物 V が 7.50g 得ら れた。 OT 14 WANTIE H2SO4 DY 1² BAJ* R2 R¹ R²2 KMnO4 R¹ H H HRAGASCAR 0 +9 問6 不飽和脂肪酸R の分子式を答えなさい。 問7 化合物と化合物 U を比較した際に正しいものを(ア)~(オ)からす べて選び、解答欄の該当する記号を○で囲みなさい。 (ア) 化合物Tよりも化合物 Uの方が親水性が強い。 -OH+HO- (イ)化合物Tの融点は, 化合物 Uの融点より低い。 (ウ) 同じ質量の化合物Tと化合物 U をそれぞれ燃焼した際には、同 じ体積のCO2 が得られる。 SH*** (エ) 同じ物質量の化合物Tと化合物 Uをそれぞれ燃焼した際には, 同じ質量のH2Oが得られる。 (オ) 同じ物質量の化合物Tと化合物 Uをそれぞれ炭酸水素ナトリウ 早稲田大基 問8 問9 ム たが のう 四捨 問10 BAO

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化学 高校生

読みましたが、全体的に理解出来ません。英語で理解出来なかったので多分、全文和訳しても理解出来ません。 なので、この写真に載っていることを分かりやすく教えていただきたいです🙇🏻‍♀️

Free energy changes determine if a reaction is endothermic or exothermic. Processes in nature are driven in two directions: toward least MAIN IDEA enthalpy and toward greatest entropy. When these two oppose each other, the dominant factor determines th direction of change. As a way to predict which factor will dominate fora given system, a function has been defined to relate the enthalpy and entropy factors at a given temperature tropy and constant pressure. This combined enthalpy-entropy function is callepd t free energy, G, of the system; it is also called Gibbs free energy. This function simultaneously assesses the tendencies for enthalpy and entropy to change. Natural processes proceed in the direction that lowersthefree energy of a system. Only the change in free energy can be measured. It can be defined in terms of changes in enthalpy and entropy. At a constant pressure and temperature, the free-energy change, AG, of a system is defined as the difference between the change in enthalpy, AH, and the product of the Kelvin temperature and the entropy change, which is defined as TAS. Free Energy Change AGO= AH°- TASO Note that this expression is for substances in their standard states. The product TAS and the quantities AG and AHhave the same umor usually kJ. The units of AS for use in this equation are usually N If AG<0, the reaction is spontaneous. AH and AS in the free-energy equation can have positive or negative values. This leads to four possible combinations of terms.

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化学 高校生

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

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